Команда исследователей под руководством докторов Чу-Юля Ли и Сейля Кима из Корейского института материаловедения представила первую в мире технологию кислотного серебрения, полностью исключающую использование токсичного цианида. Новая методика основана на использовании соединений фосфора и позволяет создавать однородные и устойчивые серебряные покрытия, соответствующие высоким требованиям в микроэлектронике и других точных отраслях.
Работа опубликована в журнале Electrochimica Acta (EA).Серебрение необходимо для улучшения проводимости в полупроводниках, микросхемах и печатных платах. Однако традиционные методы используют цианиды — вещества, опасные для человека и окружающей среды. К тому же щелочная природа таких растворов несовместима с фотолитографией, применяемой при производстве чипов: они разрушают фоторезисты.
Ранее предпринимались попытки заменить цианиды другими веществами, но в кислой среде это вызывало осаждение ионов серебра, что делало покрытия нестабильными. Решение южнокорейских ученых — использование фосфиновых лигандов, стабилизирующих ионы серебра и предотвращающих их выпадение в осадок. Это позволило не только отказаться от цианида, но и исключить необходимость в сложных добавках, упрощая процесс.
В результате ученые добились равномерного, прочного и высококачественного покрытия, отвечающего стандартам производства.
По словам ведущего исследователя проекта, доктора Чу-Юля Ли, разработка открывает новые перспективы в производстве электроники, медицинского оборудования, оптических сенсоров и других изделий, требующих экологичного и точного серебрения.
Свежие комментарии