Если дорожная карта ИФМ РАН и Национального центра физики и математики будет одобрена, то к 2030 году в России начнется выпуск отечественных литографов. Об этом "Газете.Ru" рассказал главный разработчик прорывного отечественного литографа, создаваемого с участием научной кооперации Национального центра физики и математики (НЦФМ), заведующий отделом многослойной рентгеновской оптики Института физики микроструктур (ИФМ) РАН Николай Чхало.
"В рамках этой "дорожной карты" на первый этап — создание критических технологий рентгеновской литографии – мы выделяем 2 года. Это значит, что альфа-машина будет создана в течение двух лет после начала работ. На ней мы надеемся получить через два года разрешение проекционного объектива сразу 32-28 нм. Мы протестируем все основные элементы литографа уже в реальном масштабе. Это короткий срок, но мы это сделаем", – рассказал Чхало.
По его словам, второй этап займет также два года. В его рамках ученые планируют создать бета-машину, уже ориентированную на массовое производство, рисование чипов.
"У нее разрешение тоже будет на уровне до 28 нм. В ASML (голландской компании — разработчике самых передовых литографов) интеграция от машины до производства заняла шесть лет примерно. Предполагается, что эта машина пройдет все этапы интеграции в линейке, где-то будет использоваться, может быть, а к 2030 году уже начнется выпуск рабочих литографов. Этот литограф сможет выпускать чипы 28 нм, а потом 14 нм и 12 нм. То есть, это вполне современные размеры", – отметил Чхало.
О том, как давно в Россию запретили продавать передовое оборудование для печати микросхем, кто в мире производит передовые литографы, и насколько Россия отстает от мировых трендов – в интервью "Газеты.Ru".
Свежие комментарии