Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) представил первую в России разработку фотолитографической установки с разрешением 350 нанометров, предназначенную для производства микросхем. Новейшая установка совмещения и проекционного экспонирования успешно прошла приемку государственной комиссией, в состав которой вошли эксперты из ключевых отраслевых организаций и ведущих российских предприятий микроэлектроники.
В реализации проекта ЗНТЦ сотрудничал с белорусским ОАО "Планар", известным своими наработками в данной области на постсоветском пространстве. Совместная разработка обладает рядом улучшенных характеристик. В частности, увеличена площадь рабочего поля до 22 на 22 мм (ранее 3,2 на 3,2 мм) и расширен максимальный диаметр обрабатываемых пластин до 200 мм (вместо 150 мм). Ключевым новшеством стало применение твердотельного лазера в качестве источника излучения, который отличается большей мощностью, энергоэффективностью, долговечностью и узким спектром излучения по сравнению с традиционно используемыми ртутными лампами.
В настоящее время ЗНТЦ ведет работы по адаптации технологических процессов к потребностям конкретных заказчиков и готовится к заключению контрактов на поставку первых установок. Оборудование планируется использовать для модернизации действующих и оснащения новых производственных линий микроэлектронных предприятий страны.
Испытания и доработка технологических процессов будут проводиться на специализированной площадке инженерно-исследовательского центра ЗНТЦ. Такой подход позволяет отладить оборудование без влияния на работу действующих производств заказчиков и ускорить внедрение новых разработок в серийное производство микроэлектроники.
Кроме того, в ЗНТЦ ведется разработка следующего поколения литографического оборудования с разрешением 130 нанометров, завершение которой намечено на 2026 год.
Свежие комментарии